Нм

суб-100-нм структуры — sub-100-nm structures
плёнки тоньше чем 20 нм — films thinner than about 20 nm
фотолитография на длине волны 365 нм — i-line lithography
одноцифровой нанометровый диапазон менее 10 нм — sub-10 nm range
волокно с высоким пропусканием в диапазоне 1300 нм — second window fiber
волокно с высоким коэффициентом пропускания в диапазоне 850 нм — first-window fiber
волокно с высоким коэффициентом пропускания в диапазоне 1550 нм — third-window fiber
волокно с высоким коэффициентом пропускания в диапазоне 1300 нм — second-window fiber
литография для изготовления структур с размерами элементов от 1 до 100 нм — lithography on the nanometer scale